更新時間:2024-11-06
凈化型勻膠機 型號CKF-411 凈化勻膠機是適合半導體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合半導體大型晶圓硅片,芯片,晶片,等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。是集成電路及半導體件生產過程中涂復光致抗腐蝕劑的設備
凈化型勻膠機 型號CKF-411
凈化勻膠機是適合半導體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合半導體大型晶圓硅片,芯片,晶片,等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。是集成電路及半導體件生產過程中涂復光致抗腐蝕劑的設備
設備中涂膠部分四個工位單片微型機控制四個工位同時工作或分別工作,即各工位的運轉單獨傳動,轉數單獨調節及單獨顯示。
凈化型勻膠機 為保證在涂膠工藝中不飛片,設備中吸頭和氣泵中間有四個電磁閥,同時增加一個負壓儲氣罐,保證了吸片牢固和可靠性。
設備中配有的空氣凈化裝置。
主要技術指標:
勻膠工位:1個工位 或者 4個工位
勻膠時間:1-99秒
勻膠轉數:500-8000轉/分
凈化效果:100級(美國聯邦標準)
操作區風速:0.3-0.5米/秒(有效操作區氣流狀態:垂直層流()
于φ8mm-φ100mm晶體硅片及其它材料等勻膠
外形尺寸:650x750x1620mm
外體顏色:瓷白色
1.控制范圍和精度:轉速控制范圍為:500-8000轉,精度為±3%
2.時間控制范圍為:1-99秒,精度為±5%
3.轉速調整采用高精度D/A轉換,具有128級的精度調諧。
4.轉速查看智能化。(自動識別哪個電機開或關)自動轉換到開啟的電機上。可予先選定,也可在運行中隨時查看任一電機的轉速。
5.采用良好的I2C總線技術和E2PRAM數字存儲器,可預存10組工藝參數(勻膠機A型機可予存10個延時時間,40個電機轉速參數。B型機可予存20個時間參數,80個轉速參數;顯影機可保存9個慢啟動參數,30個時間,30個轉速參數)。保存的參數掉電10年不丟失。調整后的參數自動保存,簡化了操作。
6.具有全自動智能控制功能,當使用全自動方式時只需放好工件,然后按一下ATART(開始)鍵,吸盤自動打開,定時工作完成后延時6秒電機停穩后自動關閉吸盤,喇叭鳴三聲,提示完成工作。大大的提高了工作效率。
7.定時的時間和轉速的測量全部由軟件控制,定時部分采用倒計時的方式顯示,轉速測量部分直接顯示被測電機的每分鐘轉數。調整部分由軟件和D/A轉換器控制,去掉了原使用CMOS電路采用的撥盤開關和機械電位器的機械觸點。在原基礎上增加了全自動功能,減少了操作程序,避免了頻繁的開關面板上的按鍵開關,大大的降低了按鍵開關因頻繁使用而損壞。提高了整機的可靠性和使用壽命。調整,啟動,切換,停止,并有提示音。
隔爆型壓力變送器 型號: CYB-30S
概述:
CYB-30S隔爆型壓力變送器使用離子濺射薄壓力變送器敏感元件,加上精心設計的電子線路以及一體化隔離防爆全不銹鋼結構,適合于遠距離傳輸和工業自動化系統配套。特別于具有腐蝕性、易燃易爆氣體的環境中使用;可廣泛地應用于各種研究和工業環境中進行控制、數據采集,如石油、天然氣、化工、冶金、能源等現場需要防爆的工業領域。
技術參數:
指標名稱性能指標
被測介質氣體、液體及蒸汽
壓力類型表壓/壓/負壓
量 程-0.1~0Mpa—150Mpa 可選
供電電源`12~36 DC(標準24V DC)
輸出信號4~20mA / 1~5V
精 度±0.1%FS、±0.25%FS、±0.5%FS
溫漂影響±0.02%FS/℃
年穩定性0.2%FS/年
緣電阻≥500MΩ(100V DC)
環境溫度-20~85℃
介質溫度-40~85℃ / 125℃ / 150℃ / 200℃可選
相對溫度0~90% RH
過載能力150%FS
連接方式M20×1.5、1/2NPT、1/4NPT可選
接液材料膜片17-4PH;過程連接件1Cr18Ni9Ti
引線方式端子引出型
重 量1.1Kg
防爆等級隔離防爆ExdⅡCT6
外型尺寸圖:
技術特點:
高溫、、高精度、高穩定性;
抗振動、沖擊、耐磨蝕全不銹鋼結構 外部可直接調整零點和靈敏度;
符合ExdIICT6隔離防爆要求,適合各類防爆的工業現場;
應用領域:
石油、化工、冶金行業;
醫藥、生化、發酵檢測系統;
自動控制及檢測系統;
需要隔離防爆要求的工業現場;